等离子体电源及反应气体发生器 Power & Reactive Gas
反应气体发生器
ASTRON® 系列氟离子发生器.
广泛应用于 CVD 工艺腔清洗，它具有功率大，效率高等特点。产品有：
- ASTRON®i - AX7670 (3 升)
- ASTRON®e - AX7680 (4 升)
- ASTRON®ex - AX7685 (6 升)
- ASTRON®hf - AX7645 (15 升)
等离子体电源用于晶圆工艺
ASTeX® 等离子体电源 广泛应用于 CVD ， ETCH ，去胶等晶圆工艺。
- R*evolution® - AX7690 集成远程等离子体源用于晶圆工艺
- AX2600 集成等离子体系统
- SmartPower® - AX2500 系列微波电源
- ASTeX® – AX3060 SmartMatch 微波匹配器
- ASTeX® – AX7610 下游等离子体源
臭氧发生器
SEMOZON® 臭氧发生器及集成系统， LIQUOZON® 臭氧水循环系统广泛应用于 CVD ，去胶和湿法清洗等工艺。
- O3MEGA® AX8561 臭氧发生器集成系统
- SEMOZON® AX8500 系列臭氧发生器集成系统
- SEMOZON® AX8400 系列臭氧发生器
- LIQUOZON® Smart 臭氧水递送系统。提供高浓度、大流量臭氧水
- LIQUOZON® Single 臭氧水递送系统。紧凑型设计，适合于单片硅片清洗系统
- LIQUOZON® LoopO3 臭氧水循环递送系统。紧凑型设计，带循环水泵，主要用于硅片清洗工艺
- LIQUOZON® 100 和 XF 臭氧水递送系统
射频功率电源
ENI® 提供高可靠的固态电源，其频率从 1MHz 到 60MHz， 功率从 3 百瓦至 13千瓦，还可选自动频率调谐，广泛地应用于 Etch， CVD 和 PVD等工艺。
- 中频射频功率电源 (1-4MHz)
- NOVA® 系列，功率为 2.5 千瓦和 5千瓦，自动频率调谐可选。
- Spectrum® 系列，功率从 5千瓦至 11千瓦，自动频率调谐可选。
- 高频射频功率电源 (13.56MHz)
- ACG 系列风冷电源，功率从 3百瓦至 1 千瓦。
- GHW 系列电源，功率从 1.5 千瓦至 5 千瓦，自动频率调谐可选。
- Spectrum® 系列电源，功率从 1.5 千瓦至 10.5 千瓦，自动频率调谐可选。
- SurePower® 系列电源，功率从 1.5 千瓦至 13 千瓦，自动频率调谐可选。
- 超高频射频功率电源 (27.12-60MHz)：
- GEW 系列电源，功率从 1.5 千瓦至 3千瓦，自动频率调谐可选。
直流/脉冲功率电源
ENI® 直流/脉冲电源主要应用于半导体，光电器件，磁盘，平板显示器等工业中的镀膜工艺。
- Optima® 系列直流电源，其功率从 5千瓦至 60 千瓦。
- RPG 系列脉冲电源，其功率从 5 千瓦至 10 千瓦，频率从 50 至 250KHz ， 占空比从 0 至 40% 。
ENI® 射频阻抗匹配器
ENI® 射频监测系统（ V/I Probe® ）
基于数字信号处理 DSP 的 V/I Probe® 阻抗分析器提供了可用户编程的，精确的实时测量。可在一个大的频率范围内进行 RMS 电压、电流和相位等数据信息的采集。